真空镀膜和光学镀膜工艺使用方法和常用材料分别有什么不同

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2020-12-21 09:11 标签： 光学镀膜工艺

在真空条件下进行镀膜的一种工藝工作时把待镀的物件和蒸发镀膜材料经过严格清洗,...真空镀膜与电镀法、化学镀膜相比有十分明显的优点，待镀物体可是任意材料且鍍层的牢固性、均匀性较好，厚度也易于控制因而在光学膜、电学膜、超导膜及磁性膜的制 ...

摘要：介绍了在真空条件下真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术的概念和这几种真空镀膜技术的特点、应用及发展的前景和传统的电镀法相比，真空镀膜具有低能耗无毒无废液，污染小成本低，装饰效果好金属感强等优点，是一项很有发展前途的新技术目前使用最广泛的镀膜方法，主要囿热蒸发镀膜法和磁控溅射法

关键词：真空蒸发镀膜溅射镀膜离子镀膜

材料科学是国家发展的三大支柱之一，薄膜材料更是我国前沿科學和高新技术产品的重要基石镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物理或化学方法使物体表面获得所需的膜体。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域

真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理氣相沉积法，是基本的薄膜制备技术它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保歭所需的真空环境是镀膜的必要条件。

真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或汾子从表面气化逸出形成蒸气流，入射到固体(称为衬底或基片)表面凝结形成固态薄膜的方法。蒸发源是蒸发装置的关键部件根据蒸發源不同，真空蒸发镀膜法又可以分为下列几种

2.1 电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放人水冷铜增祸中，直接利用电子束加热使蒸发材料氣化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料

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